近期，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所精密光學(xué)制造與檢測中心在數(shù)字化子孔徑拋光中中頻誤差的研究方面取得重要進(jìn)展，研究首次證明工具與光學(xué)元件間接觸壓強(qiáng)分布是影響中頻誤差不可忽視的重要因素，并提出旋轉(zhuǎn)卷積模型（RPC）實現(xiàn)了受該因素影響下中頻誤差定量解耦；研究成果進(jìn)一步深化了對子孔徑拋光中頻誤差產(chǎn)生機(jī)制的理解，也為中頻誤差的進(jìn)一步抑制提供了新的研究思路，相關(guān)研究成果發(fā)表于Optics Express。 \n}%RD-Ce  
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隨著現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的快速發(fā)展，高功率激光、大型望遠(yuǎn)系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等對光學(xué)元件精度及產(chǎn)能提出了極高的要求，尤其是中頻誤差指標(biāo)已成為制約各系統(tǒng)進(jìn)一步提升的關(guān)鍵瓶頸問題。在高功率激光系統(tǒng)中，中頻誤差會引起焦斑拖尾和近場調(diào)制，甚至?xí)�損壞光學(xué)元件；在成像系統(tǒng)中，中頻誤差會引起小角度散射，降低光束質(zhì)量和成像對比度。在數(shù)字化子孔徑拋光制造過程中，普遍認(rèn)為路徑及去除函數(shù)的形貌是影響中頻誤差的關(guān)鍵影響因素；但隨著制造精度不斷提升，很大比例的反常中頻誤差浮出水面，現(xiàn)有理論的局限性已逐漸暴露。  ]!ZZRe  
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