離子源清洗和退膜出來都是干凈的，但是到鍍碳膜后。出來的模具表面都有2到4個(gè)點(diǎn)臟污。 y,+[$u7h  
測試過鍍膜500秒以下出來的是很好的，1000秒以上出來基本都有幾個(gè)點(diǎn)。過濾濾網(wǎng)重新噴砂換過還是如此。真空度偶爾浮動不是馬上恢復(fù)。抽真空時(shí)間很長懷疑真空有問題， -T/W:-M(  
A~lIa$U$b  
請問一下造成上面的問題有哪些原因呢。

加  YKWQAZWSX

麻點(diǎn)原因太多了。 w.kCBDL  
1，你的工藝要講清楚，某些鍍膜材料本身容易噴濺，噴濺的時(shí)候會有真空波動。 [^PCm Z6n  
2，如果用離子源輔助，中和不足的情況下，會吸附鍍膜材料的小顆粒到鍍膜傘去。 oJaAM|7uv  
3，坩堝某些部位漏（冷卻水或者空氣都有可能），會造成氣流將小顆粒吹到傘上。 p4/$EPt)lY  
4，POLYCOLD化霜太快，會將盤管上的臟物爆到傘上去。 2DMrMmLI