一、
鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類?
MF +F8h>/ 可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍 (2)電鍍 (3)化學(xué)反應(yīng) (4)熱處理 (5)物理或機(jī)械處理
TrBtTqH) 二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點(diǎn)?
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xBQX 加熱方式分為：
QV _a M2 (1)電阻加熱 (2)感應(yīng)加熱 (3)電子束加熱 (4)雷射加熱 (5)電弧加熱
f5'vjWJ30 *?o 'sTH 各具有的特點(diǎn)：
R)%I9M, (1)電阻加熱：這是一種最簡(jiǎn)單的加熱方法，設(shè)備便宜、操作容易是其優(yōu)點(diǎn)。
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(2)感應(yīng)加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。
\_/dfmlIZ ][>-r&V (3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場(chǎng)聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達(dá)30000C。而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。
jr^btVOI#\ :PB W=W (4)雷射加熱：
激光束可經(jīng)由
光學(xué)聚焦在蒸鍍?cè)瓷�，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。最早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線準(zhǔn)分子雷射。紫外線的優(yōu)點(diǎn)是每一
光子的能量遠(yuǎn)比紅外線高，因此準(zhǔn)分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類似。常被用來(lái)披覆成份復(fù)雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或?yàn)R射的過(guò)程有基本上的差異，準(zhǔn)分子雷射脫離的是微細(xì)的顆粒，后者則是以分子形式脫離。
xxpzz(S ]A ilQt`-O! (5)電弧加熱：
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xN9 陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：
"f-HOd\= (1)蒸鍍速率快，可達(dá)每秒1.0微米
5B;; {GR (2)基板不須加熱
nsu RG (3)可鍍高溫金屬及陶瓷化合物
gVs@T' (4)鍍膜密高且附著力佳
aQ0pYk~( C%"aj^u 三、真空蒸鍍可應(yīng)用在哪些產(chǎn)業(yè)?
!~Kg_*IT 主要產(chǎn)業(yè)大多應(yīng)用于裝飾、光學(xué)、電性、機(jī)械及防蝕方面等，現(xiàn)就比較常見者分述如下：
Bu4@FIK!C 1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等)，鏡片置于半球支頂，一次可鍍上百片以上。
;V84Dy#b 2.金屬、合金或化合物鍍膜，應(yīng)用于微電子當(dāng)導(dǎo)線、電阻、光電功能等用途。
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