MESA+納米技術(shù)研究所的研究人員開發(fā)了一種工具，可以同時測量等離子體源的大小和它發(fā)出的光的顏色。同時測量這兩者，使我們能夠進(jìn)一步改進(jìn)光刻機(jī)，以制造更小、更快、更先進(jìn)的芯片。這篇文章在《光學(xué)快報(bào)》上作為編輯精選而受到關(guān)注。 q-c=nkN3  
*cC_j*1@  
yQ^($#Yk  
光刻機(jī)是幾乎所有電子設(shè)備都需要的微芯片制造過程中的核心。為了生產(chǎn)最小的芯片，這些機(jī)器需要精密工程的透鏡、鏡子和光源。XUV光學(xué)集團(tuán)的助理教授Muharrem Bayraktar解釋說：“傳統(tǒng)上，我們只能看到產(chǎn)生的光量，但為了進(jìn)一步改進(jìn)芯片制造過程，我們還想研究這種光的顏色和光源的大小�！� d)pV;6%[$q  
e