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    [技術(shù)]錐形相位掩模的Talbot像 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-09-21
    摘要 u /cL[_Q  
     ][6$$ Lz  
    在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在VirtualLab Fusion中對(duì)具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測(cè)得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。 ^gh/$my;  
    VD +8j29  
     +8Zt<snG  
    >&aFSL,f  
    建模任務(wù) zpIl'/ i  
    VA)3=82n  
     %dS7u$Rnh  
    結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來(lái)自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) W==HV0n  
     MlsF?"H p  
    某一位置的Talbot圖樣 ,$sq]_t  
    Uz\B^"i|  
     )AqM?FE4R  
       ,ibI@8;#~'  
    某一位置的Talbot圖樣 ]ODC+q1  
    Yk:fV