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TFV薄膜設計軟件是用于設計、分析和優(yōu)化光學薄膜層結構的工具,通常被廣泛應用于光學、電子、能源等領域,開發(fā)具有特定光學性能的材料和器件,如濾光片、反射鏡、透射鏡等。 +<p?i]3CHe =)Z!qjf1U 下面我們將列舉出它的特征和幾個重點功能。特征: &P8 Run B<.XowT' 新類型最適化方法 g=eYl_P6 Freehand mode! *2MM _4E .
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i5 實時計算 qGndh 實時運算系統(tǒng),立即顯示運算結果。以鼠標控制滑動尺、上下鍵,可快速變更膜厚、折射率。膜厚亦可用鍵盤來做變更(箭頭鍵,PgUp,PgDn鍵)。 k~|nU 圖紙格式編輯屏幕 _n9+(X3 多張標簽工作表,最多可同時設計20個膜數(shù)據(jù)。每張紙的計算結果迭加在波長圖和入射角圖上。 y/'^r? 多窗口 a
}6Fj&hj 可以同時顯示圖形和數(shù)值,例如波長特性,入射角特性,顏色計算和光學沉積監(jiān)視器。 -w41Bvz0 多語言 d~L`*"/)[ 您可以在英語,日語和繁體中文之間切換。 ciKkazx. 高分辨率顯示兼容 cv fh:~L 即使是具有高分辨率顯示的字符也不會模糊。根據(jù)Windows縮放設置縮放字符。您還可以設置字體和字體大小。功能: .E!p e@k`C{{C]o 基本操作 QusEWq)}< 以鼠標控制滑動尺、上下鍵,可快速變更膜厚、折射率。 Qxds]5WB/ 就能同時顯示多種曲線圖,從各種視點進行薄膜設計。 $YDZtS&h 多張標簽工作表,最多可同時設計20個膜資料。 1](5wK-Z S312h'K
j z1\G,mJK 波長、入射角的3D圖表顯示 jRz2l`~7# 等高線顯示。回轉、zoom可以。 ejj|l
c"aiZ(aP ]+\@_1<ZI 光學式蒸鍍監(jiān)控 |_l\. 通常監(jiān)控的膜厚和制品基板的膜厚會不同,且設計上的折射率(大氣中)和成膜中(真空中)的折射率也不一樣。而TFV軟件則能考慮上述問題進行模擬。 `!MyOI`qS 光學測光方式
&y1' J 1j*I`xZ sPNX) 電場強度分布 %hK?\Pg3=E 可選擇欲顯示的偏振光種類。 o l67x G9\Bi-'ul 根據(jù)選擇「反面」,由表面?zhèn)鹊娜肷涔馀c反面測的入射光電場強度將可同時顯示。 DQg:W |A E-,74B&H H[o'j@0 顏色計算 +Q, 0kv 顯示所有工作表的計算結果,因此能夠計算各膜數(shù)據(jù)之間的色差。 N"|^AF ]ABpOrg (_ov_3 表色系統(tǒng) 6y)xMX XYZxy, CIE L*a*b*, L*C*h, Hunter Lab, L*u*v*, UCS, Whiteness Index, Yellowness Index, sRGB, CIE2000, Dominant Wavelength。 bAeN>~WvY 對應的光源種類 L1u
A, B, C, D50, D55, D65, D75, E, F1, F2, F3, F4, F5, F6, F7, F8, F9, F10, F11, F12, ID50, ID65。 ~p~8T 您也可以將自己的光源數(shù)據(jù)注冊為csv文件。 L K9vvQz 制造誤差分析 Gy[;yLnX 某層的膜厚、折射率、吸收系數(shù)的誤差,于調查會對光學特性會造成多少程度影響時及調查設計值與實際成形薄膜的光學特性的乖離發(fā)生在哪一層時(Mismatch解析)、及依據(jù)Monte Carlo simulation調查制造變異時(制造誤差解析)使用。 AqVTHyCu <[xxCW(2 波長曲線圖Monte Carlo simulation {+f@7^/i. EWN$ILdD 顏色計算Monte Carlo simulation GCrh4rxgg U{D ?1tF L@?Dmn'v 您可以為每個圖層指定每個薄膜厚度,折射率和吸收系數(shù)的變化量。 LBtVK, ? 變化量可以從絕對值的均勻分布,%的均勻分布和正常(Gaussian)分布(σ)中選擇。 ]sO}) 這個軟件是用 Mersenne Twister 隨機數(shù)發(fā)生器。 JGIN<J85e 反面測的特性
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