鍍膜工藝：1.AL2O3+H4+AL2O3+H4+AL2O3+H4+MGF2(高溫鍍膜：320度，無IAD，有這種現(xiàn)狀） $|7"9W}m*  
                  2.SIO2+OS50+SIO2+OS50+SIO2+OS50+SIO2(高溫鍍膜：120度，IAD，有這種現(xiàn)狀） pzRVX8  
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描述:分光

圖片:分光對比.png

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描述:鏡片

圖片:鏡片.png

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yE N3/-S+  
鍍膜要求：440-660nmRabs<0.3%  AOI:5° Pjq9BK9p  
鍍膜下機確認無這種現(xiàn)象，放置24H后，表面開始吸附東西。

你鍍的光譜這也達不到要求啊

這種現(xiàn)象是膜層吸潮造成的嗎？

樓主找到解決辦法了嗎，能不能分享一下 J10