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    [技術(shù)]《基于Essential Macleod軟件的光學薄膜設(shè)計技術(shù)》(第二版 精裝) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-11-03
    i6"/GSA  
    內(nèi)容簡介 /5:f[-\s  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學薄膜設(shè)計技術(shù)》。 ISQC{K']J  
    《基于Essential Macleod軟件的光學薄膜設(shè)計技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié),結(jié)合當前市場占有率極高的光學薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實用性強。書中不僅有成熟的光學薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法,還有關(guān)于光學薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合,從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來,對實際鍍膜提出實用的建議,以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 hEO#uAR^Z  
    薄膜光學涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計光盤和參考文獻,有興趣者可依此深入研究,為精準起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學習之后能夠較好地完成其所承擔的光學任務(wù)。然而由于個人能力之局限,書中錯誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 D;f[7Cac  
    =h?Q.vad  
    訊技科技股份有限公司
    +N161vo7  
    2015年9月3日
    _(CuuP$`I  
    目錄 ?'xTSAn  
    Preface 1 pK)*{fC$`  
    內(nèi)容簡介 2 *WSH-*0  
    目錄 i @S/PB[%S  
    1  引言 1 45Z"U<I,9  
    2  光學薄膜基礎(chǔ) 2 r52X}Y  
    2.1  一般規(guī)則 2 e ~X<+3<  
    2.2  正交入射規(guī)則 3 Hpo/CY/  
    2.3  斜入射規(guī)則 6 fI{ZElPp  
    2.4  精確計算 7 T&?0hSYt  
    2.5  相干性 8 so* lV  
    2.6 參考文獻 10 F1V[8I.0  
    3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 U'pm5Mc\q  
    4  Essential Macleod的特點 32 ?e? mg  
    4.1  容量和局限性 33 < q6z$c)K  
    4.2  程序在哪里? 33 mhp&; Q9  
    4.3  數(shù)據(jù)文件 35 aZ$$a+  
    4.4  設(shè)計規(guī)則 35 _$<Q$P6y  
    4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 =1dU~B:Lm  
    4.5.1材料損失 38 LPjsR=xi  
    4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導入材料 39 ^y@ RfM=A  
    4.5.2 材料庫 41 !i0jk,[B=  
    4.5.3導出材料數(shù)據(jù) 43 ;WQ@dC  
    4.6  常用單位 43 9N H"Ik*  
    4.7  插值和外推法 46 jTNfGu0x  
    4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 aBPaC=g{HO  
    4.9 更多光學常數(shù)模型 54 'xNPy =#  
    4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 ~Rzn =>a  
    4.11 撤銷和重做 56 }$K2h*  
    4.12  設(shè)計文檔 57 UWdPB2x[  
    4.10.1  公式 58 \bt+46y@]  
    4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 x+V;UD=mH  
    4.10.3  沉積密度 59 zj!&12w%3  
    4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 nwwKef(  
    4.10.5  漸變折射率和散射層 60 j1!P:(  
    4.10.4  性能 61 !/4f/g4Ze  
    4.10.5  保存設(shè)計和性能 64 %21i#R`E  
    4.10.6  默認設(shè)計 64 ` [ EzU+  
    4.11  圖表 64 U D9&k^  
    4.11.1  合并曲線圖 67 0phO1h]2S)  
    4.11.2  自適應(yīng)繪制 68