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內(nèi)容簡(jiǎn)介 j+!v}*I![  
Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 FlQGgVN  
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來，對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 )1z@
  
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)�從事薄膜行業(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請(qǐng)讀者不吝賜教。
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edD)TpmE,  
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目錄 <$YlH@;)`a  
Preface 1 i@q&5;%%  
內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 #z(]xI)"  
目錄 i . me;.,$#  
1  引言 1 /xQTxh1;K  
2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 Kq!3wb;  
2.1  一般規(guī)則 2
t:S+%u U  
2.2  正交入射規(guī)則 3 g7|@  
2.3  斜入射規(guī)則 6 ta0|^KAA  
2.4  精確計(jì)算 7 k'YTpO  
2.5  相干性 8 E$e5^G9  
2.6 參考文獻(xiàn) 10 Smh,zCc>s  
3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 rjP/l6 ~'  
4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 NlqImM=r,  
4.1  容量和局限性 33 sT.ss$HY9,  
4.2  程序在哪里？ 33 iCoX&"lb  
4.3  數(shù)據(jù)文件 35 QPx^_jA  
4.4  設(shè)計(jì)規(guī)則 35 maZ)cW?  
4.5  材料數(shù)據(jù)庫(kù)和資料庫(kù) 37 WxDh;*am:  
4.5.1材料損失 38 ;"I^ZFYX  
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入材料 39 6Zo}(^Ovz  
4.5.2 材料庫(kù) 41 <q836]aaA  
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 ~Ei<Z`3}7"  
4.6  常用單位 43 =wJX0A|  
4.7  插值和外推法 46 *a)n62  
4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 !Cs_F&l"j  
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 A,]h),b  
4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 Iv *<La  
4.11 撤銷和重做 56 "Q<MS'a  
4.12  設(shè)計(jì)文檔 57 S/ *E,))m  
4.10.1  公式 58 )BE1Q*= n  
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 SM'|+ d  
4.10.3  沉積密度 59 wkq 
66?  
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 965jtn  
4.10.5  漸變折射率和散射層 60 |)&%A%m  
4.10.4  性能 61 4*L_)z&4;  
4.10.5  保存設(shè)計(jì)和性能 64 l} /F*  
4.10.6  默認(rèn)設(shè)計(jì) 64 K9[UB  
4.11  圖表 64