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    [技術(shù)]用于二維光柵的元件內(nèi)部場(chǎng)分析器 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-01-03
    隨著VirtualLab Fusion版本2023.2的最新發(fā)布,添加了許多新的有用工具。但新奇之處還不止于此:我們還借此機(jī)會(huì)升級(jí)了一些以前存在的功能。我們將焦點(diǎn)放在了元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀:FMM上,這是一種允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部場(chǎng)分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結(jié)構(gòu)。 `j>5W<5q\  
    元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀:FMM f kZHy|m  
    EB[T 5{  
    s(=wG|   
    這個(gè)例子演示了如何計(jì)算1D或2D周期性微米或納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場(chǎng)分布。 k_7m[o  
    抗反射蛾眼結(jié)構(gòu)的嚴(yán)格分析與設(shè)計(jì) ^O_Z5NbC3  
    SboHo({5VA  
    1C<cwd;9  
    利用傅立葉模態(tài)方法和VirtualLab Fusion中的參數(shù)優(yōu)化,我們展示了蛾眼啟發(fā)的抗反射結(jié)構(gòu)的分析和設(shè)計(jì)。
     
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