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    [技術]用于二維光柵的元件內(nèi)部場分析器 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-01-03
    隨著VirtualLab Fusion版本2023.2的最新發(fā)布,添加了許多新的有用工具。但新奇之處還不止于此:我們還借此機會升級了一些以前存在的功能。我們將焦點放在了元件內(nèi)部場分析儀:FMM上,這是一種允許用戶可視化和研究微結構納米結構內(nèi)部場分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結構。 c|Nv^V*2  
    元件內(nèi)部場分析儀:FMM ?iUAzM8  
    3M(:}c  
    ZSMOq4Y 9  
    這個例子演示了如何計算1D或2D周期性微米或納米結構內(nèi)部的電磁場分布。 b'^ -$  
    抗反射蛾眼結構的嚴格分析與設計 pscCXk(|A`  
    Bj J$I^  
    oG5JJpLT  
    利用傅立葉模態(tài)方法和VirtualLab Fusion中的參數(shù)優(yōu)化,我們展示了蛾眼啟發(fā)的抗反射結構的分析和設計。
     
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