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    [技術(shù)]用于AR/MR的光波導(dǎo)足跡分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-01-29
    摘要 8f|98T"  
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    用于增強(qiáng)或混合現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的任何類型的光導(dǎo)系統(tǒng),其設(shè)計(jì)過程中的一個(gè)主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴(kuò)展器光柵區(qū)域的配置。為此,對光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡單的概述非常有幫助:足跡分析。借助足跡和光柵分析工具,VirtualLab提供了一個(gè)強(qiáng)大的工具,可在此過程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中,討論了這個(gè)多功能工具的選項(xiàng)和功能。 7tRi"\[5  
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    足跡和光柵分析工具 `rlk|&T1  
     足跡和光柵分析工具是光導(dǎo)工具箱黃金版的一個(gè)特色。 `<U5z$^QTw  
     它可以在開始功能區(qū)的光導(dǎo)部分進(jìn)行初始化。 3@_Elu  
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    操作工具的基本流程 l(!/Q|Q|  
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    步驟1:選擇要分析的設(shè)置。它可以通過布局設(shè)計(jì)工具生成,詳見: MG{l~|\x)  
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    光導(dǎo)布局設(shè)計(jì)工具 nls   
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    但是請注意,足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個(gè)文件。  cG{L jt  
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