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Zemax光學設(shè)計從入門到精通	Zemax光學設(shè)計從基礎(chǔ)到實踐	成像衍射光學元件設(shè)計及應(yīng)用	現(xiàn)代光學與光子學技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應(yīng)商	微小光學與微透鏡陣列	光學設(shè)計與光學元件	計算光學帶來的成像革命

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[求助]離子源前處理時間問題 [復制鏈接]

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離線wpawj

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2024-05-16

關(guān)鍵詞：離子源

請教一下，鍍膜前的離子源前處理時間多長合適，有什么依據(jù)或者判定標準嗎？

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離線ouyuu

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2024-05-17

和離子源能量強度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了）