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簡介: -b?M5P*: _8 K|2$X 本文的目的是介紹FRED的材料性質方面一些高級的設定,這些設定共分成以下幾個部份。 7#UJ444b~ 雙折射晶體和偏振光干涉 td\gk 光源偏振設置 xE--)=<$ 雙折射材料方向和其他設定 mpwh= 干涉結果和光線性質查看 T^7}Qs9 漸變折射率(GRIN)材料 4NaT@68p 腳本設置漸變折射率材料 1nvT={'R 定性模擬結果 Er@xrhH [N4N7yF 雙折射晶體和偏振光干涉 R'B_YKHBY 0k\,z(e 偏振光干涉現(xiàn)象在實際中有很多應用,這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗,設置如下圖所示:左側是偏振光源,偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度,所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板,厚2mm,光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片,偏振片方向與光源方向垂直(xy 平面,與x 夾角-45度),偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現(xiàn)的。最右邊是接收分析面,光線在這里停止,用來計算光強。 hUvA;E(qD FYC]^D 圖1. 系統(tǒng)設置 l>
H'PP~ 下面設置雙折射材料。在材料文件夾下右擊,選擇新建材料(create a new material),選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質(sampled birefringent and/or optically active material),波長設置為0.5875618,o光和e光的折射率分別設為1.66 和 1.49,光軸方向設置為z軸(0,0,1)。 j&S.k *HV_$^)= 圖2. 雙折射材料 c%b|+4
}x 偏振片是通過偏振鍍膜來實現(xiàn)的,如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾,新建鍍膜,類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix),然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。 -9+$z|K k??CXW d<OdQvW. 圖3. 偏振鍍膜 0VJHE~Bgi 右擊光源文件夾并選擇新建詳細光源。命名為Diverging beam,光源的類型選擇為六邊形平面,方向選擇從某點發(fā)出,并且把這一點選在z軸負軸的某一點(0,0,-20)。設置光源設為相干光,在偏振(polarization)選項卡里設置光源偏振類型和方向為線性偏振,方向為x軸方向(下面通過把光源沿z軸選擇-45度來調整偏振方向,當然也可以在這里設置偏振方向為某一個特定點方向,但是用前一種方法在需要改變光源偏振方向時會更方便一些)。然后設置光源位置和旋轉,將光源位置設置在(0,0,-3),沿z軸選擇-45度。 4n(w{W> jYAm}_?No G){+.X4g3 圖4. 光源方向 Xu#?Lw ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/220427/1-22042H02912451.png) 圖5. 光源相干性設置 # 7dvT= ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/220427/1-22042H02941914.png) 圖6. 光源偏振設置 圖7. 光源位置和旋轉 PK&&Vu2M 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊,選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10,厚度2,雙面曲率為0,在原點處,并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。 0lq?l:/ sLTQm*jL 圖8. 新建方解石平板 #>~A-k) 在幾何結構文件夾下(geometry)下右擊,新建基本元件(create element primitive),平面(plane),半長寬分別是10單位,旋轉 -45度,向z軸負方向平移5個單位。把偏振鍍膜套用在偏振片上。 +Gy9K <Mo{o2F= k:j?8o3 圖9. 新建偏振片 DTi^* Wj 同樣步驟建立接收面,半長寬分別12,位置在(0,0,10)處。 ^P [#YO 4J=6U&b 圖10. 接收面 c@]G;>
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