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    [技術(shù)]用于AR/MR的光波導(dǎo)足跡分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-06-18
    摘要 lJ3VMYVrUP  
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    用于增強或混合現(xiàn)實應(yīng)用的任何類型的光導(dǎo)系統(tǒng)，其設(shè)計過程中的一個主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴展器光柵區(qū)域的配置。為此，對光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進行快速而簡單的概述非常有幫助：足跡分析。借助足跡和光柵分析工具，VirtualLab提供了一個強大的工具，可在此過程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中，討論了這個多功能工具的選項和功能。 _|e&zr  
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    足跡和光柵分析工具 h; q&B9  
     足跡和光柵分析工具是光導(dǎo)工具箱黃金版的一個特色。 8Yc-3ozH  
     它可以在開始功能區(qū)的光導(dǎo)部分進行初始化。 e6p3!)@P1  
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    操作工具的基本流程 *Xnf}Ozx  
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    步驟1：選擇要分析的設(shè)置。它可以通過布局設(shè)計工具生成，詳見： 5QqU.9M  
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    光導(dǎo)布局設(shè)計工具 2#NnA3l]x%  
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    但是請注意，足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個文件。 @7}XBg[pI  
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    步驟2：定義該工具應(yīng)該考慮的視場范圍。 u>;aQtK~  
    步驟3：單擊分析按鈕。關(guān)于分析進度的詳細信息將在按鈕下方的面板中提供。 q25p3  
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    理想和實際光柵結(jié)果 %3dc_YPS  
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    足跡和光柵分析工具的結(jié)果可以分為兩個方面： 50 w$PW  
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     `XF[A8@h  
    H, 3Bf  
    相互作用的足跡數(shù)據(jù) ([<{RjPb  
    -W6@[5