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    [技術(shù)]錐形相位掩模的Talbot圖像 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-06-27
    摘要 nW $A^  
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    在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模�？梢詸z測到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 ?jNF6z*M6  
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    UM4 @H1  
    建模任務 Z7/vrME6  
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    2!{_/@I\Y  
    0)A=+zSS1  
    structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) < 72s7*Rv  
    4NpHX+=P  
    系統(tǒng)建模塊 <S\;k@f  
    @9_nwf~X4  
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    HCX!P4Hj  
    特定位置的Talbot圖案 lq>*x=<  
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