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    [技術(shù)]高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-07-09
    1. 摘要 d)9PEtI  
       y8}"DfU.  
    高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應(yīng)的理解。 ju r1!rg%  
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    2. 建模任務(wù) *SXSF95  
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    3. 概述 S]tkz*w0*  
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     示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 !;ZBL;qY9  
     下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 v5P*<U Ax  
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    `s#sE.=o  
    4. 光線追跡仿真 G)4 ZK#wz  
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     首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 K%k