一.光刻技術(shù)簡介
a! x?Apww 光刻是在集成電路制造過程中非常重要的步驟，是制造
芯片的核心設(shè)備。
pi*?fUg!W 芯片的復(fù)雜細微三維結(jié)構(gòu)就是通過光刻機把掩膜的圖形轉(zhuǎn)印到光刻膠上，再通過刻蝕工藝轉(zhuǎn)移到硅片上。
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二.光刻鏡頭的概述
5Obv/C 整個集成電路制造過程中，光刻的步驟需要重復(fù)幾十次。
`@ Ont+ 光刻技術(shù)水平限制了集成電路性能提升和關(guān)鍵尺寸的進一步減小。
l=&Va+K 光刻工藝的核心是對準和曝光，都是通過光刻鏡頭實現(xiàn)的。
QbAEW m 光刻鏡頭的功能原理和投影物鏡是相似的，但是設(shè)計難度和
成像質(zhì)量要求比普通投影物鏡高得多。紫外光刻鏡頭的作用是將投射
光源產(chǎn)生的光場聚焦到光刻膠層上，并保持所需的分辨率和圖形質(zhì)量。這些鏡頭通常使用紫外光源（波長通常在250至450納米之間），因為紫外光的短波長使得能夠獲得更高的分辨率。
g31\7\)Ir zZCssn;[ 紫外光刻鏡頭的主要特點包括：
+r =p ,leb 1.高分辨率：紫外光的短波長使得光刻圖案可以獲得更高的分辨率，從而實現(xiàn)更小尺寸的芯片結(jié)構(gòu)。
N*hx;k9 2.平面波前：紫外光刻鏡頭需要保持圖案的平面波前，以確保圖案的投影在整個芯片表面上都是均勻的。
[ 3SbWwg 3.大視場：紫外光刻鏡頭通常需要具有較大的視場，以便在單次曝光中覆蓋整個芯片區(qū)域。
#5IfF~* i 4.低畸變：鏡頭設(shè)計需要盡可能減小像差和畸變，以確保投影的圖案保持形狀和精確度。
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三．透射式光刻物鏡：
