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    [技術(shù)]高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-08-20
    摘要 <^><3U`  
    SG'JE}jzO  
    高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 )"u:ytK{  
    j%tEZ"H  
    b|?;h21rG  
    #Z9L_gDp  
    建模任務(wù) 2$0)?ZC?=  
    Zf:]Gq1  
    y-+G wa3  
    概觀 fI:H8  
    vr IV%l=  
    N}Q FGX  
    光線追跡仿真 x)viY5vjH  
    S/Oxr%H  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 'mV:@].le  
    MOHHZApt  
    •點(diǎn)擊Go！ !nw [  
    •獲得3D光線追跡結(jié)果。  ;}4k{{K  
    (F&YdWe:  
     36A;!1  
    ;Bs^iL  
    光線追跡仿真 eyB_l.U7  
    =vEkMJ Os  
    h~UJCn zS  
    •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 =5s$qb?#  
    •單擊Go！ v33T @  
    •結(jié)果，獲得點(diǎn)列圖（2D光線追跡結(jié)果）。     !J^tg2M8:  
    pVG>A&4  
    vm}G[  
    08r[K(bfb,  
    場追跡仿真 ^H=o3#P~L  
    !0jq6[&  
    fVUKvZ}P*  
    •切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。 W_JhNe  
    •單擊Go！     vttrKVA  
    |- OHve4A  
    l l:jsm  
    +x]e-P%  
    場追跡結(jié)果（攝像機(jī)探測器） E fSMFPM  
     t)(v4^T  
    Q8Te'1Ln!  
    •上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強(qiáng)度。 3B#!2|  
    •下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強(qiáng)度。 RV92qn B  
    Ez分量：由于在高NA情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。 l<N?'