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課程編號(hào)CS240016                                                                             bzpi7LKN  
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時(shí)間地點(diǎn) 7Z
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主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司；蘇州黌論教育咨詢(xún)有限公司 AIl`>ac  
授課時(shí)間：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00 D`n<!"xg@$  
授課地點(diǎn)：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 wa[J\lW  
課程講師：訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn) 1Mq"f7X8  
課程費(fèi)用：4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐)
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特邀專(zhuān)家介紹 5Zc  
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易葵：中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師，主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線(xiàn)多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)，入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 <2j$P Y9  
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課程簡(jiǎn)介 zk70D_}L  
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隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高，其種類(lèi)非常廣泛，如增透膜，高反膜，分光膜，濾光片等，光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國(guó)際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用，第二天為各種類(lèi)型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法，前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師，第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專(zhuān)家易葵，分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。 fC^d@4ha  
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課程大綱 *C)m#[#:u  
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1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 dG3?(}p+  
1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來(lái)表示性能 `o_i+?E  
1.4 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ,f>^q"  
1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 5Mxl({oI]  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 RU.j[8N$  
2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理
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3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 5Q}HLjG8Z  
3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 #@Tm5z  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長(zhǎng)與g 5-a^Frmg#"  
4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 (q7;/n  
4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 ]Gm&Kn>  
4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 iw(`7(*  
4.6.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準(zhǔn)牛頓法，針形優(yōu)化，差分演化法）4.6.3 膜層鎖定和鏈接 ZWFOC,)b  
5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 %LdBO1D0  
5.2 分光膜5.3 高反射膜 JKYtBXOl  
5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片 {>R933fap  
5.6 負(fù)濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 `T2DGv  
5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜 %RIu'JXi  
5.10 Vstack薄膜設(shè)計(jì)示例5.11 Stack應(yīng)用范例說(shuō)明 bMqS:+  
6. 薄膜性能分析6.1 電場(chǎng)分布 /$8& r  
6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程 2#`d:@r  
6.4 均勻性，摻雜/孔隙材料仿真7. 真空技術(shù) -uAGG?ZER  
7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏 _n*gj-