角放大率 _Dcc<-.  
近軸像空間主光線的角度與近軸物空間主光線角度之比。角度的計算考慮近軸的入瞳和出瞳位置。 ?m9UhLeaS=  
變跡法 J.e8UQ@=5  
變跡法指的是光學(xué)系統(tǒng)的入瞳照明的均勻程度。在缺省的情況下入瞳總是均勻照明的。但在需要得時候，入瞳必須有必要采用非均勻照明。為此，支持入瞳變跡法，這樣使得入瞳上的光能量的振幅可為變量。ZEMAX支持三種入瞳變跡法：均勻分布，高斯分布和正切分布。對每一種振幅分布（除均勻分布），變跡因子決定了光能量振幅對入瞳變化比例。參見“系統(tǒng)菜單”中變跡類型和變跡因子的討論。 ^2;(2s  
ZEMAX也支持用戶自定義變跡，而且用戶自定義變跡可置于任何一個表面。表面變跡的作用不同于入瞳變跡，原因在于表面不一定位于入瞳。關(guān)于表面變跡的更多信息，參見“表面類型”一章中的“用戶自定義表面”。 Sv~1XL W  
后焦長度 :af;yu  
ZEMAX定義后焦長度如下：最后一個玻璃面到與無窮遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的Z軸方向上的距離。如果光學(xué)系統(tǒng)中沒有玻璃面，則后焦長度定義為第一個面到與無窮遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的Z軸距離。 peTO-x^a-  
基面 gcW{]0%L^  
基面這一術(shù)語（有時也稱為基點）源于那些特定的共軛位置，在這些位置上物面與像面有確定的放大率。 C>`.J_N  
基面包含主面（其上的橫向放大率為1），反基面（其上的橫向放大率為-1），節(jié)點平面（其上的角放大律為1），反節(jié)點平面（其上的角放大律為-1），焦平面（對像空間焦平面而言放大率為0，對物空間焦平面而言放大率為∞） ;/)Mcx]