MEMS的課程論文，寫得比較認(rèn)真，希望對大家有用^_^ 傳上來掙點(diǎn)分…… 9 h<];
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本文主要對具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括： s}uOht}
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1、移動掩模深X射線光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技術(shù) ,Za!
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 fDN iU"
3、水平型正交橫截面技術(shù)（Plane-pattern to cross section transfer，PCT） kTT!gZP$
4、X射線灰色掩模技術(shù) p}.L ]Y
并對最新的制造方法：X射線灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技術(shù)做詳細(xì)介紹。
