寬帶隙的GaN基半導體在短波長發(fā)光二極管、激光器和紫外探測器，以及高溫微電子器件方面顯示出廣闊的應用前景；對環(huán)保，其還是很適合于環(huán)保的材料體系。半導體照明產業(yè)發(fā)展分類所示的若干主要階段，其每個階段均能形成富有特色的產業(yè)鏈。世界各國現在又投入了大量的人力、財力和物力，以期望取得GaN基高功率器件的突破，并且居于此領域的制高點�！暗�化物襯底材料與半導體照明的應用前景”文稿介紹了氮化物襯底材料與半導體照明的應用前景的部分內容。 :c0 |w  
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GaN、AlN、InN及其合金等材，是作為新材料的GaN系材料。對襯底材料進行評價要就襯底材料綜合考慮其因素，尋找到更加合適的襯底是發(fā)展GaN基技術的重要目標。評價襯底材料要綜合考慮襯底與外延膜的晶格匹配、襯底與外延膜的熱膨脹系數匹配、襯底與外延膜的化學穩(wěn)定性匹配、材料制備的難易程度及成本的高低的因素。InN的外延襯底材料就現在來講有廣泛應用的。自支撐同質外延襯底的研制對發(fā)展自主知識產權的氮化物半導體激光器、大功率高亮度半導體照明用LED，以及高功率微波器件等是很重要的�！暗�化物襯底材料的評價因素及研究與開發(fā)”文稿介紹了氮化物襯底材料的評價因素及研究與開發(fā)的部分內容。 <"x *ZT  
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GaN是直接帶隙的材料，其光躍遷幾率比間接帶隙的高一個數量級。因此，寬帶隙的GaN基半導體在短波長發(fā)光二極管、激光器和紫外探測器，以及高溫微電子器件方面顯示出廣闊的應用前景；對環(huán)保，其還是很適合于環(huán)保的材料體系。 n|!O .+\b  
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1994 年，日本的Nicha公司在GaN/Ａl2O3上取得突破，1995年，GaN器件第一次實現商品化。1998年，GaN基發(fā)光二極管LED市場規(guī)模為 US$5.0億，2000年，市場規(guī)模擴大至US$13億。據權威專家的預計，GaN基LED及其所用的Ａl2O3襯底在國際市場上的市場成長期將達到 50年之久。GaN基LED及其所用的Ａl2O3襯底具有獨特的優(yōu)異物化性能，并且具有長久耐用性。預計，2005年GaN基器件的市場規(guī)模將擴大至US $30億，GaN基器件所用的Ａl2O3襯底的市場規(guī)模將擴大至US$5億。 $EPDa?$*  
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半導體照明產業(yè)發(fā)展分類所示的若干主要階段，其每個階段均能形成富有特色的產業(yè)鏈： Y~I6ee,\  
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1）第一階段 6G>bZ+  
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第一階段（特種照明時代，2005年之前），其中有：儀器儀表指示；金色顯示、室內外廣告；交通燈、信號燈、標致燈、汽車燈；室內長明燈、吊頂燈、變色燈、草坪燈；城市景觀美化的建筑輪廓燈、橋梁、高速公路、隧道導引路燈，等等。 zK&J2P`  
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2）第二階段 Oa-~}hN  
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第二階段（照明時代，2005~2010年），其中有：CD、DVD、?H-DVD光存儲；激光金色顯示；娛樂、條型碼、打印、圖像記錄；醫(yī)用激光；開拓固定照明新領域，衍生出新的照明產業(yè)，為通用照明應用打下基礎，等等。 sys;Rz2  
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