一、OptiLayer 模塊 Au.:OeJm  
/0lC KU!=  
OptiLayer 模塊的功能同大多數(shù)軟件差不多，不同處在于：1.能解決其它軟件不能再優(yōu)化的問題；2.運(yùn)算速度快，比同時(shí)期的同類軟件快數(shù)百倍。其具體原因可參考針式算法專題。 y-9+a7j  
gnLn7?  
二、OptiChar模塊 +=eR%|!@  
zizk7<?L.  
OptiChar模塊主要通過鍍膜材料實(shí)測光學(xué)特性參數(shù)(某波段范圍內(nèi)的反射率和透過率曲線)給出一評(píng)估曲線，再通過在某一基底下，考察給定薄膜理論中一些因素(厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)時(shí)，擬合出在當(dāng)前考察因素下，最接近鍍膜材料實(shí)測出的光譜特性評(píng)估曲線的層材料光譜特性曲線，進(jìn)而給出此時(shí)的層材料模型(包含層材料的厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)。擬合得越好則給出的層材料模型越接近當(dāng)前鍍膜條件下的實(shí)際情況。 rk|@B{CA;  
/L v1$~  
且在考察和不考察某一因素時(shí)，如果擬合狀況無多大變化，則說明當(dāng)前考察的光學(xué)特性(反射或透過)對(duì)該因素不敏感。即該因素對(duì)當(dāng)前考察的光學(xué)特性無多大影響。因而再利用該層材料作設(shè)計(jì)且為當(dāng)前考察的光學(xué)特性時(shí)，可以忽略該因素的影響而不去考慮它。  c%f_.MiU  
>72JV;W]  
如上表即薄膜理論中最重要的一些因素：不均一性、消光系數(shù)和表面粗糙度對(duì)某一層材料實(shí)際測得的光譜特性(反射和透過)的影響程度。由上表我們可知在利用該層材料模型做設(shè)計(jì)時(shí)，若設(shè)計(jì)只考慮反射時(shí)，則該三因素中只需考慮不均一性；同理若設(shè)計(jì)只考慮透過時(shí)，則該三因素中需考慮不均一性和消光系數(shù)。 h*w6/ZL1  
jL>:>r  
uzBz}<M=  
三、OptiRE模塊 s0C:m  
p[v#EyoC  
    OptiRE這一模塊為工程反演，其主要目的為向生產(chǎn)過程提供一個(gè)回饋。 WeMAe w/d  
rzeLx Wt  
    OptiRE中采用一差異函數(shù)比較設(shè)計(jì)模型光譜特性和生產(chǎn)后薄膜實(shí)驗(yàn)測得的光譜特性， OptiRE的工程反演運(yùn)算法則是基于使該差異函數(shù)值最小。（OptiLay模塊的優(yōu)化設(shè)計(jì)則是優(yōu)化比較理論和目標(biāo)光譜特性的評(píng)價(jià)函數(shù)值） rmd;\)#*`  
gfy19c 9