1. 真空
涂層技術(shù)的發(fā)展
UP?D@ogl< RNvQ 真空涂層技術(shù)起步時間不長,國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金
刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進行(工藝溫度高于1000℃),涂層種類單一,局限性很大,因此,其發(fā)展初期未免差強人意。
q P'[&h5Y 1!d)PK>1$ 到了上世紀(jì)七十年代末,開始出現(xiàn)
PVD(物理氣相沉積)技術(shù),為真空涂層開創(chuàng)了一個充滿燦爛前景的新天地,之后在短短的二、三十年間PVD涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展,究其原因,是因為其在真空密封的腔體內(nèi)成膜,幾乎無任何環(huán)境污染問題,有利于環(huán)保;因為其能得到光亮、華貴的表面,在顏色上,成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,可謂五彩繽紛,能夠滿足裝飾性的各種需要;又由于PVD技術(shù),可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層,應(yīng)用在工裝、
模具上面,可以使壽命成倍提高,較好地實現(xiàn)了低成本、高收益的效果;此外,PVD涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個特點,幾乎可以在任何基材上成膜,因此,應(yīng)用范圍十分廣闊,其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù),各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮,如今在這一領(lǐng)域中,已呈現(xiàn)出百花齊放,百家爭鳴的喜人景象。
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