二元光學元件的研究將可能在以下方面發(fā)展 pNiqb+^ nz
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1.亞波長結(jié)構(gòu)二元光學元件 4QI vxH
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具有亞波長結(jié)構(gòu)的二元光學元件的研究(包括設(shè)計理論與制作技術(shù)) 這類元件的特征尺寸比波長還要小，其反射率、透射率、偏振特性和光譜特性等都顯示出與常規(guī)二元光學元件截然不同的特征，因而具有許多獨特的應用潛力，如可 以作為抗反射元件、偏振元件、窄帶濾波器和相位板。研究重點包括：建立正確和有效的理論模型設(shè)計超精細結(jié)構(gòu)衍射元件；特殊波面變換的算法研究；發(fā)展波前工 程學，以制作逼近臨界尺寸的微小元件及開拓亞波長結(jié)構(gòu)衍射元件的應用，推動微光學的發(fā)展。 -IX;r1UD
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2.二元光學的CAD軟件包 BMX x(W]
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二元光學的CAD軟件包的開發(fā)至今尚未找到適合于不同浮雕衍射結(jié)構(gòu)的簡單而有效的理論模型，二元光學元件的設(shè)計仍缺乏像普通光學設(shè)計程序那樣， 可以求出任意面形、傳遞函數(shù)及系統(tǒng)像差、具有友好界面的通用軟件包。但隨著通用設(shè)計工具的發(fā)展，二元光學元件有可能成為通用的標準光學元件，而得到廣泛的 應用，并與常規(guī)光學結(jié)合，形成一代嶄新的光學系統(tǒng)。 _cGiuxf
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3.微型光機電集成系統(tǒng) 9(X
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微型光機電集成系統(tǒng)是二元光學研究的總趨勢微光電機械系統(tǒng)微光機械微電子機械微機械 1991年，美國國家關(guān)鍵技術(shù)委員會向美國總統(tǒng)提交了《美國國家關(guān)鍵技術(shù)》報告，其中第8項為“微米級和納米級制造”，即微工程技術(shù)，它主要包括微電子 學、微機械學和微光學這三個相互關(guān)聯(lián)相互促進的學科，是發(fā)展新一代計算機、先進機器人及智能化系統(tǒng)，促進機械、電子及儀器儀表工業(yè)實現(xiàn)集成化、微型化的核 心技術(shù)。二元光學技術(shù)則是發(fā)展微光學的重要支柱，二元光學元件有可能直接刻蝕在集成電路芯片上，并在一塊芯片上布置微光學陣列，甚至完全集成化的光電處理 單元，這將導致包含各種全新的超密集傳感系統(tǒng)的產(chǎn)生。
