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    [分享]現(xiàn)代薄膜材料與技術(shù) 蔡珣 [復(fù)制鏈接]

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    離線gpx007
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    只看該作者 10樓 發(fā)表于: 2011-07-29
    這個(gè)好不好啊,看看了,支持
    離線cr6808739
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    只看該作者 11樓 發(fā)表于: 2011-07-29
    正在學(xué)習(xí)中   
    離線lm341403
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    只看該作者 12樓 發(fā)表于: 2011-08-02
    謝謝分享。。。。。。。。。。。。。
    離線jackieshejie
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    只看該作者 13樓 發(fā)表于: 2011-08-02
    先看看
    離線cxb007007
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    只看該作者 14樓 發(fā)表于: 2011-08-06
    好東西
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    只看該作者 15樓 發(fā)表于: 2011-08-11
    .空心陰極離子鍍?cè)?span style="display:none"> U ->vk{v  
    在本底真空為高真空的條件下,由陰極中通入氬器氣(1-10-2) @}H'2V  
    在陰極與輔助陽(yáng)極之間加上引弧電壓,使氬氣發(fā)生輝光放電,在空心陰極內(nèi)產(chǎn)生低壓等離子體放電,陰極溫度升高到2300-2400K時(shí),由冷陰極放電轉(zhuǎn)為熱陰極放電,開(kāi)始熱電子發(fā)射,放電轉(zhuǎn)為穩(wěn)定狀態(tài)。通入反應(yīng)氣體,可以制化合膜。 PvV\b<Pe+  
    .eg'Z@o  
    2.測(cè)控濺射工作原理 6Aqv*<1=62  
    ?]Hs~n-  
    先將真空室預(yù)抽至10-3Pa,然后通入氣體(如氬氣),氣壓為1-10 Pa時(shí),給靶加負(fù)電壓,產(chǎn)生輝光放電,電子在電場(chǎng)正作用下加速飛向基片時(shí),與氬原子碰撞,電離出Ar和另一個(gè)電子; l<uI-RX "  
    轟擊靶材,由二次電子電離的 越來(lái)越多,不斷轟擊靶材;磁場(chǎng)改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,以電磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)軌跡,從而提高電子對(duì)工作氣體的電離幾率。 Zf}2c8Vc4  
    Ncbe{}<md  
    3.多弧離子鍍工作原理 gizY4~ j  
    S+[,\>pY  
    其工作原理為冷陰極自持弧光放電,其物理基礎(chǔ)為場(chǎng)致發(fā)射。 o g9|}E>  
    被鍍材料接陰極,真空室接陽(yáng)極,真空室抽為高真空時(shí),引發(fā)電極啟動(dòng)器,接觸拉開(kāi),此時(shí),陰極與陽(yáng)極之間形成穩(wěn)定的電弧放電,陰極表面布滿(mǎn)飛速游動(dòng)的陰極斑,部分離子對(duì)陰極斑的轟擊使其變成點(diǎn)蒸發(fā)源,以若干個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的為多弧離子鍍。  *\xRNgEQ  
    w9GY/]  
    4.電阻蒸發(fā)式鍍膜機(jī) D*~Q;q>  
    hz;SDaBA  
    膜材即要鍍的材料放于蒸發(fā)舟中,置于真空室中,抽到一定真空時(shí),通過(guò)電阻加熱膜材,使其蒸發(fā),當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源至基片的線性尺寸時(shí),原子和分子從蒸發(fā)源中逸出后,到達(dá)基片形成膜。為了使膜厚均勻,可以利用電機(jī)帶動(dòng)基片旋轉(zhuǎn),并用膜厚儀控制膜厚,制出優(yōu)質(zhì)膜。 r+[g.`  
    D$)F X(  
    5.E型槍工作原理 paD[4L?4Hk  
    ~s4JGV~R  
    陰極燈絲加熱后發(fā)射具有0.3    EV初動(dòng)能的熱電子,這些熱電子在燈絲陰極與陽(yáng)極之間的電場(chǎng)作用下加速并會(huì)聚成束狀。在電磁線圈的磁場(chǎng)中,電子束沿E x B的方向偏轉(zhuǎn),通過(guò)陰極時(shí),電子的能量提高到10KV,通過(guò)陽(yáng)極電子偏轉(zhuǎn)270度角而入射坩堝內(nèi)的膜材表面上,轟擊膜材使其蒸發(fā)。 [