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    [求助]鍍膜時(shí)工件轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)速不夠會(huì)怎么樣 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2011-12-21
    鍍單層MGF2的時(shí)候，工件的轉(zhuǎn)動(dòng)電壓調(diào)太小了，會(huì)導(dǎo)致膜厚不均勻嗎？還是會(huì)更嚴(yán)重？求高手指點(diǎn) H@$K /  
     
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    離線12511895
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2011-12-22
    那會(huì)有的，不過(guò)要看你的轉(zhuǎn)速多少，越慢就均勻越不好，
    離線lincc
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2011-12-23
    回 12511895 的帖子
    12511895:那會(huì)有的，不過(guò)要看你的轉(zhuǎn)速多少，越慢就均勻越不好， (2011-12-22 21:37)  jFe8s@7  
    )rj!/%  
    嗯，試了下，鍍單層MGF2還好
    離線kouyang3232
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2012-01-05
    單層氟化鎂我沒開公轉(zhuǎn)都沒問(wèn)題。。。（忘了開），膜層少不會(huì)影響太大，但大多數(shù)情況下應(yīng)該是影響其均勻性。太慢也可能有噴點(diǎn)
    離線12511895
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2012-01-05
    回 kouyang3232 的帖子
    kouyang3232:單層氟化鎂我沒開公轉(zhuǎn)都沒問(wèn)題。。。（忘了開），膜層少不會(huì)影響太大，但大多數(shù)情況下應(yīng)該是影響其均勻性。太慢也可能有噴點(diǎn) (2012-01-05 19:55)  ojBdUG\  
    2&:z[d}~H  
    那能噴點(diǎn)��？？？？