本文針對極大規(guī)模集成電路制造的工業(yè)化生產(chǎn)需求，開展面向 100nm 曝光節(jié)點(diǎn)的高數(shù)值孔徑（NA）、深紫外（DUV）投影光刻
物鏡的
光學(xué)設(shè)計(jì)與
仿真。即綜合元件加工、檢測、
鍍膜、光學(xué)
材料、機(jī)械結(jié)構(gòu)、
照明系統(tǒng)以及分辨率增強(qiáng)等各項(xiàng)技術(shù)要求和約束，完成 NA0.75，工作
波長 193nm（ArF）投影光刻物鏡的
光學(xué)設(shè)計(jì)。同時(shí)為最大限度地降低投影光刻物鏡的制造成本并確保的各項(xiàng)性能指標(biāo)，研究投影光刻物鏡可能采取的像質(zhì)補(bǔ)償措施和方法。
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&Ruq8n< 長春光機(jī)所 博士論文
Nmt~1.J
