半導(dǎo)體UVLED曝光方法，適于利用一臺UVLED曝光機對晶片進行曝光。這種半導(dǎo)體UVLED曝光機至少是由用來承載晶片的曝光鏡頭以及液體循環(huán)裝置構(gòu)成，其中液體循環(huán)裝置在曝光期間為曝光鏡頭與晶片之間供應(yīng)液體。其特征在于，半導(dǎo)體UVLED曝光前，利用至少一對準(zhǔn)光源對承載臺進行一對準(zhǔn)操作，其中對準(zhǔn)光源具有一特定波長，使液體揮發(fā)時對對準(zhǔn)光源的影響降至最低，以防止液體影響前述對準(zhǔn)操作。 R{C(K(5/  
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半導(dǎo)體UVLED曝光機的原理以及特點： g#"zQv