用lighttools做個(gè)背光源，要求雙面出均勻光，布點(diǎn)時(shí)候直接用BPO布點(diǎn)了，發(fā)現(xiàn)雙面布點(diǎn)沒(méi)法加入初始位移，使得兩面點(diǎn)大小相同密度相同但錯(cuò)開(kāi)一個(gè)點(diǎn)位 `HG19_Z  
正反兩面都用hexagonal分布圓點(diǎn)，反射和透過(guò)都寫(xiě)50%，split ray，問(wèn)BPO能否在不移動(dòng)我初始布好的點(diǎn)位置情況下僅優(yōu)化點(diǎn)大小？ r)(BT:2m  
目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點(diǎn)位置上優(yōu)化大小不希望他動(dòng)到點(diǎn)的位置，這樣怎么處理？ Pki4wDCTW  
求高手 1\*B.  
另外同時(shí)優(yōu)化雙面出光斑時(shí)能不能把兩個(gè)評(píng)估函數(shù)整合到一起，優(yōu)化每一面的光板都對(duì)兩面的綜合情況進(jìn)行優(yōu)化？ xsDa!  
求高手啊~

只改變點(diǎn)大小不改變位置的設(shè)置如下： xcZ%,7  

圖片:Picture1.jpg

&O6;nJEI  

SXBQ  
優(yōu)化同時(shí)考慮兩個(gè)面的設(shè)置如下： ~26s7S}  

圖片:Picture2.jpg

hahahahk:只改變點(diǎn)大小不改變位置的設(shè)置如下： Z?~gQ
$  
[圖片]
優(yōu)化同時(shí)考慮兩個(gè)面的設(shè)置如下： hmK8jl<6  
[圖片] (2013-09-30 17:20)  :DZLjC  

>AR
Tr'B  
謝謝，好棒