附件是一些英特爾近年來(lái)讓摩爾定律得以延續(xù)關(guān)鍵技術(shù)：三柵極3d晶體管技術(shù)和14nm光刻。同時(shí)獻(xiàn)上三篇蔡司光刻鏡頭專(zhuān)利，該專(zhuān)利和英特爾14nm技術(shù)的關(guān)聯(lián)性極小，從搜集情報(bào)來(lái)看英特爾所采購(gòu)的光刻系統(tǒng)很有可能應(yīng)用尼康的光刻物鏡。國(guó)內(nèi)光刻設(shè)備和光刻工藝和國(guó)際水準(zhǔn)有巨大落差。工藝方面臺(tái)積電（TW）年內(nèi)有可能實(shí)現(xiàn)18nm-16nm工藝！中芯國(guó)際有可能實(shí)現(xiàn)28nm工藝，由高通提供相關(guān)幫助。 -{O2Nv-