如下要求,基片為晶體, R"5/
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% \4K8*`$
TMKemci
]SBv3Q0D7
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% [Qy]henK
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V?Lf&X?
現(xiàn)在我的設備配置為南光1100,公自轉,全自動帶310晶控,請問各位大蝦如上要求的膜 u):z1b3*?
能穩(wěn)定的做出來嗎?如果做不出,那最少要什么 tFwQ /
配置的設備才能做出來,謝謝