寬波段要求達(dá)到0.5%以下剩余反射其實(shí)要求算是較高的，膜系設(shè)計(jì)有一定的難度，主要是誤差的影響會(huì)很大，對(duì)機(jī)臺(tái)的要求會(huì)更嚴(yán)格，從設(shè)計(jì)上，從工藝上如何降低誤差的影響是關(guān)鍵。

說(shuō)的太高省

先做厚一點(diǎn)的單層（越厚越好），測(cè)分光曲線(xiàn)。 zL<<`u?  
然后用麥克勞德或者TFC算折射率。 RrPo89o  
算出來(lái)的折射率再用來(lái)做設(shè)計(jì)。 WE hDep:  
然后自己再根據(jù)實(shí)際曲線(xiàn)慢慢修。 Zss `##  
+?!x;qS^  
我以前做的380～800 反射率不超過(guò)0.3%。 Qmk}smvH  
設(shè)計(jì)是8層TiO2/SiO2,是一個(gè)W型的曲線(xiàn)。 _ `RCY^t  
我的經(jīng)驗(yàn)是TIO2折射率越高開(kāi)口越寬，越好做。 69o,T
`B  
但是折射率高的話(huà)，就需要用到好的離子源。 <e s>FD  
光馳機(jī)或者新柯隆機(jī)應(yīng)該能做出來(lái)。 y[W<vb+F  

用麥克勞德算了一下，用TiO2,SiO2,最后一層用Mgf2 Q^iE,_Zq  
400~1000 全部在0.5%以下，12層可以實(shí)現(xiàn)。 "XU M$:D  
這個(gè)還是用軟件算的，人工調(diào)整的話(huà)我覺(jué)得10層以?xún)?nèi)應(yīng)該可以做到。