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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2016-08-02
    橢偏儀原理以及應(yīng)用
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    摘要: 橢偏測(cè)量技術(shù)通過(guò)測(cè)量光在介質(zhì)表面反射前后偏振態(tài)變化,獲得材料光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)信息。本文主要介紹了橢偏儀的背景概述、光學(xué)原理。并對(duì)行業(yè)最前沿最高端的的雙旋轉(zhuǎn)穆勒矩陣橢偏儀進(jìn)行功能概述,希望對(duì)廣大的技術(shù)從業(yè)人員會(huì)有幫助。 Jd5\&ma  
    關(guān)鍵詞:橢偏儀、橢偏儀原理、穆勒矩陣橢偏儀 48 W.qzC  
    f64(a\Rw!^  
    概述 ]} 61vV  
    橢偏測(cè)量技術(shù)通過(guò)測(cè)量光在介質(zhì)表面反射前后偏振態(tài)變化,獲得材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)信息,具有測(cè)量精度高,非接觸,無(wú)破壞且不需要真空。 pheE^jUr  
    |K L')&"  
    自從1887年,德魯?shù)绿岢鰴E偏理論,建立了世界上第一套實(shí)驗(yàn)裝置并成功地測(cè)量了18種金屬的光學(xué)常數(shù)起,1945年,Rothen第一次提出了橢偏儀一詞。之后,橢偏儀有了很大的發(fā)展,被廣泛應(yīng)用于薄膜測(cè)量這一領(lǐng)域。根據(jù)橢偏儀的工作原理,主要分為消光式和光度式兩類。在普通橢偏儀的基礎(chǔ)上,橢偏光譜儀、紅外橢偏光譜儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀又發(fā)展出來(lái)。 t})lr\  
    n*4lz^LR  
    2 橢偏儀的測(cè)量原理 NO-k-  
    U|gpCy  
    橢偏儀的結(jié)構(gòu)及光路如圖1所示,橢偏光在樣品表面上的反射、折射、多光束干涉過(guò)程,介質(zhì)表面作用會(huì)引起前后偏振態(tài)(橢偏參數(shù) ψ振幅比和 Δ相位差)變化,通過(guò)獲得材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)信息。 `|$'g^eCL  
    E7Ibp79}N  
    通過(guò)后期關(guān)聯(lián) ψ振幅比和 Δ相位差的光學(xué)模型匹配獲取所關(guān)心的參數(shù)值: B*\$ /bk,  
    iI5+P`sE&J  
    3.穆勒矩陣橢偏儀     g;pR^D'M5C  
    &+ KyPY+  
    穆勒矩陣偏振儀(Mueller Matrix Ellipsometer)也稱為廣義橢偏儀,與傳統(tǒng)光譜橢偏儀相比,廣義橢偏儀可以改變波長(zhǎng)λ、入射角θ和方位角ψ這3個(gè)測(cè)量條件,每次測(cè)量條件下都可以獲得一個(gè)4×4階的穆勒矩陣(Mueller matrix)共16個(gè)參數(shù)(測(cè)量原理示意圖如圖2.所示),因此可以比傳統(tǒng)光譜橢偏儀獲得豐富得多的測(cè)量信息。其中不同配置橢偏儀,一次測(cè)量能獲得的元素的數(shù)目是不同的。基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC, dual rotating compensator)配置的穆勒矩陣橢偏儀可以一次測(cè)量獲得全部穆勒矩陣的16個(gè)元素。 'E4AV58.  
    從橢偏行業(yè)研討會(huì)最新信息來(lái)看,雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器型穆勒矩陣橢儀仍然是目前國(guó)際上深紫外到近紅外波段橢偏測(cè)量技術(shù)的最高水平。目前只有武漢頤光科技有限公司(www.eoptics.com.cn)和美國(guó)woollam公司是目前國(guó)際上僅有的兩家成熟掌握該專利技術(shù)且可以實(shí)現(xiàn)商品化的廠商。 T~BA)![  
    以武漢頤光科技的ME-L型穆勒矩陣型橢偏儀(光學(xué)儀器結(jié)構(gòu)如圖2.所示)為例,穆勒矩陣橢偏儀具有超寬光譜范圍、重復(fù)性測(cè)量精度高、測(cè)量速度快、儀器操作便捷、光學(xué)模型豐富?赏ㄟ^(guò)反射/透射率、橢偏參數(shù)、穆勒矩陣和退偏指數(shù)等參數(shù)測(cè)量,實(shí)現(xiàn)各種光學(xué)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析等優(yōu)勢(shì),作為高端科研儀器,特別適合分析各向異性材料。 W'a(oI  
    UMV)wy|j  
    ]' Y|N l  
    dsJm>U)  
    4.橢偏儀的應(yīng)用 {esJ=FV\  
    橢偏儀可應(yīng)用于納米光學(xué)薄膜厚度、材料光學(xué)常數(shù)、納米結(jié)構(gòu)關(guān)鍵尺寸等分析表征:半導(dǎo)體:半導(dǎo)體薄膜,如介電/金屬薄膜,AlGaN、ZnO等寬禁帶半導(dǎo)體材料;集成電路:周期性納米結(jié)構(gòu),如光刻掩模光柵結(jié)構(gòu),納米壓印結(jié)構(gòu),刻蝕深溝槽結(jié)構(gòu)等;平板顯示:LCD、OLED新型平板顯示中有機(jī)、無(wú)機(jī)多層薄膜結(jié)構(gòu)等;光伏太陽(yáng)能:硅、多元化合物、有機(jī)化合物、聚合物等光伏薄膜材料;新材料、新物理現(xiàn)象研究:材料光學(xué)各向異性、退偏效應(yīng)、電光效應(yīng)、光彈效應(yīng)等。
     
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    離線ka2012
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2016-08-02
    內(nèi)容有點(diǎn)亂,直接分享文檔吧!
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2021-09-15
    橢偏儀大概原理給出了,謝謝!
    離線shuotian99
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2021-09-15
    橢偏儀原理
    離線sun92
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2021-09-16
    樓主是eoptics員工嗎 橢偏儀可以測(cè)試鏡片的折射率嗎,精度有多高,對(duì)鏡片形狀尺寸等有要求嗎?