光學(xué)鍍膜完成的大口徑反射光學(xué)元件光譜（反射率）非均勻性是非常重要的技術(shù)參數(shù)，必須滿足一定的技術(shù)要求才能用于系統(tǒng)中，因此必須具備相應(yīng)的測試手段對大口徑反射元件的反射率（非）均勻性進行準確測量，從而保證用于系統(tǒng)中反射光學(xué)元件的質(zhì)量，滿足系統(tǒng)正常運行。 x<{)xP+|  
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中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所薄膜光學(xué)測試研究團隊建立了基于頻率選擇性光反饋光腔衰蕩技術(shù)的高速、高精度、高空間分辨率大口徑反射光學(xué)元件反射率及其均勻性測試原型樣機，目前已用于國家工程任務(wù)中大口徑反射元件的測試評估和質(zhì)量控制，為大口徑反射光學(xué)元件制備的工藝優(yōu)化提供了測試技術(shù)平臺。 T8a!"lPP7  
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該測試技術(shù)取得的主要技術(shù)突破是實現(xiàn)了大口徑反射元件反射率分布的二維高分辨成像測量，最大測量口徑達到300×450mm，當R>99.99%時，反射率重復(fù)性精度優(yōu)于±0.002%，反射率絕對測量精度優(yōu)于±0.005%�？商峁┓瓷渎蕼y量的時間指數(shù)衰減擬合曲線和鏡面反射率掃描的三維測試結(jié)果。 '>r"+X^W  
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