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突破半導體工藝極限:美國科研人員實現1nm制程工藝
突破半導體工藝極限:美國科研人員實現1nm制程工藝
發(fā)布:
cyqdesign
2017-05-03 19:33
閱讀:
1911
Intel、TSMC及三星三大
半導體
工廠今年將量產10nm工藝,他們中進度快的甚至準備在明年上馬7nm工藝,2020年前后則要推出5nm工藝。但是隨著制程
工藝
的升級,半導體工藝也越來越逼近極限了,制造難度越來越大,5nm之后的工藝到現在為止都沒有明確的結論,
晶體
管
材料
、工藝都需要更新。在這一點上,美國又走在了前列,美國布魯克海文國家實驗室的科研人員日前宣布實現了1nm工藝制造。
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