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    [求助]光弛1300鍍膜機離子源柵網(wǎng)更換后氧化硅與氧化鈦匹配系數(shù)失衡,請大神幫忙分析一下 [復(fù)制鏈接]

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    離線liujun0527
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2017-06-07
    各位好,最近在生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)鍍膜機固定的2套柵網(wǎng)周期性更換后,內(nèi)外圈氧化硅與氧化鈦材料匹配系數(shù)失衡,導(dǎo)致曲線頻譜落差變大,請各大神指導(dǎo)一下從哪些方向上分析改善。 m3La;%aA0  
    cc"L> XoK  
     
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    離線756340418
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2017-06-13
    修補正板
    離線yzhuang
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2017-06-27
    一樓正解,大家一定要注意的是,離子源的狀態(tài)會影響膜層的位置均勻性,更換離子源部件或者調(diào)整離子源參數(shù)都可能會發(fā)生樓主那樣的情況
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2017-06-30
    如果只是鍍前轟擊的話,會不會影響鍍膜的均勻性。遇到過在鍍后轟擊會引起膜層不均勻的現(xiàn)象。
    離線拉比熊
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2017-07-05
    首先 檢測的是 離子源柵網(wǎng)更換是的重復(fù)性工作,其次才是MASK
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 2017-07-22
    MASK只是修正鐘罩的,而鐘罩是不變得。所以我們要從以下幾個方面去考慮: O7#ECUH  
    1、鐘罩是否變形,你可以從鐘罩的幾個不同的位置去取測試片對比以下特性的差異,有可能是因為鐘罩變形,每次取的測試片位置不一致導(dǎo)致特性不停的變動; k)W8%=R  
    2、查看離子源的蒸發(fā)角度是否發(fā)生變化,主要是離子源的傾斜角度,出廠都有參數(shù)的。角度變化導(dǎo)致離子分布變化,從而影響特性; uC3o@qGW<  
    3、電子槍系統(tǒng)是否發(fā)生變化,光斑相對于鐘罩的位置等等。 `"0#lZ`n  
    4、修正板是否變形,修正板機構(gòu)定位是否有變動,主要就是修正升上去后,相對于球罩的位置是否發(fā)生變化。 dOm#NSJVd  
    如果以上均沒有問題,再去考慮修正MASK。一般不要輕易的去動MASK。因為他是死的。 *t;'I -1w^  
    希望能夠幫助到你。
    離線龔云鍵
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 2020-05-26
    也不知道樓主解決這個問題沒有,看了好多的提問,經(jīng)常是有人幫忙出了建議,不管有么有用,問題有沒有解決,告訴一下大家也是好的呀,也能幫助一下別人遇到了此問題的人
    離線旋律
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    只看該作者 7樓 發(fā)表于: 2020-11-17
    柵網(wǎng)和鍍膜傘應(yīng)該可以固定同一個使用吧? G9s: Wp  
    ^$):Xz  
    離線tony肖
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    只看該作者 8樓 發(fā)表于: 2021-06-29
    學(xué)習(xí)學(xué)習(xí)
    離線mcgraw
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    只看該作者 9樓 發(fā)表于: 2022-04-02
    同樣遇到這種問題,不同柵網(wǎng)更換后會導(dǎo)致曲線均勻性的變化,哪怕是同一個柵網(wǎng)在每次保養(yǎng)完成以后也盡可能的連續(xù)性鍍同一膜系類型的產(chǎn)品,這樣是最能保證產(chǎn)品重復(fù)性的(針對5nm余量的高要求產(chǎn)品),如果中間穿插其他產(chǎn)品或者待機一天再鍍時,鍍前最好式樣一罩,根據(jù)實際鍍后的變化兩量去調(diào)整膜系參數(shù),除此以外也確實很難找到更好的辦法