lzh123:均勻性的問題。。。。。影響均勻性的素較多 (2017-07-08 18:04)  ;{vwBDV!'  

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好的   ，謝謝指導。我再試試看

fly6947:我建議你做一下圖一的重復性，如果每爐差，但是情況不一樣，那么是你的敏感層是H4，要么膜系結構優(yōu)化一下，（圖2是單峰結構，敏感度沒那么高）要么控制H4的預熔與充氧量；
如果每爐都這樣，那肯定是均勻性沒做好，有條件的話  高低折射率的mask單獨修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  oc7$H>ET1  

TX}T|ri  
H4  和SIO2用的是用一個。單層和膜系里單層肯定還是有些差異。敏感層是只有幾個NM。因為反射要求1.0下。

個人覺得，先去看看你設計的膜系里邊有沒有特別薄的層，然后該層的蒸發(fā)速率有多大，兩者之間匹配是否合理，就好比H4總膜厚5nm，然后速率設置的為5A/s，那就是說10s就可以鍍完了，在鍍膜過程中有一個過沖值，就是擋板收到指令關閉與完全關閉有大概2S的延遲，也就是說這兩秒鐘還有膜料在蒸鍍，這樣就會對特性造成很大的影響。第二個就是看一下鍍膜過程中光板的位置是否變動較大，導致內外圈差異較大。再或者就是鍍膜過程中是否出現(xiàn)鍍膜異常。還有就是你的傘罩有沒有變形，每次取的測試片是否為同一位置，傘罩變形的話每次取不同位置的鏡片特性自然不一樣。

敏感層的話，可以降低蒸發(fā)速率，增加鍍膜傘的轉速。最好是在設計上解決。 /PzcvN  
一般如果有鍍膜傘轉5周以內就結束的層，就不是好的設計。

謝謝各位分析！

H4有連續(xù)使用嗎？或者餡料，打坑過深影響蒸發(fā)角度所致

SiO2和H4光斑都不一樣，蒸發(fā)曲線有差異，修正板形狀肯定不一樣。 ;