圖一：同一傘從上到下的反射數(shù)據(jù)。不知道主要問題在哪里？ >dK0&+A  
   謝謝各位�。� 3(K.:376  
  圖二：是與圖二同一臺(tái)機(jī)鍍的另外一個(gè)工藝（除膜厚外，其他條件是一樣的）的反射數(shù)據(jù)。 T"htWo{v>  
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圖片:A5254BD4984F47E3B7FB814F3297C810.jpg

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        圖一是7層  LHLHLHL       H4\SIO2      ??e|ec2%  
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圖片:9CAEB8CFAB0D98EAB544F93840406934.jpg

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      圖二是 5層   LHLHL             H4\SIO2   EG^ rh;  
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均勻性問題，建議使用修正板 
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ysc212:均勻性問題，建議使用修正板
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 (2017-06-20 09:34)  ;H8`^;  

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恩   但是第二張圖只是膜厚層數(shù)不同，差異就沒有第一個(gè)大。是不是第一個(gè)膜系里面有些敏感層。謝謝回復(fù)。

個(gè)人感覺是膜層敏感度的原因，特別是光控進(jìn)行鍍膜時(shí)更容易發(fā)生這種現(xiàn)象

yzhuang:個(gè)人感覺是膜層敏感度的原因，特別是光控進(jìn)行鍍膜時(shí)更容易發(fā)生這種現(xiàn)象 (2017-06-27 11:20)  6"[,  

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我用的晶控，同樣的修正版 膜料 鍍出來的差異太大了，SIO2  H4是同一個(gè)修正板。

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我建議你做一下圖一的重復(fù)性，如果每爐差，但是情況不一樣，那么是你的敏感層是H4，要么膜系結(jié)構(gòu)優(yōu)化一下，（圖2是單峰結(jié)構(gòu)，敏感度沒那么高）要么控制H4的預(yù)熔與充氧量； R$eEW"]  
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如果每爐都這樣，那肯定是均勻性沒做好，有條件的話  高低折射率的mask單獨(dú)修一下； ;kG"m7-/  
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另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一點(diǎn)，可以選好一點(diǎn)的SIO2  ,HNk<W  
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這很清楚的。 \4fuC6d2  
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若與圖一使用之MASK為同支， e!k4Ij-]  
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圖二看起來均勻性O(shè)K，即表示MASK為好的。 NXS$w{^  
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至於圖一為什麼會(huì)這樣? 我認(rèn)為是敏感層問題(薄層) :hf%6N='kI  
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若想重複確認(rèn)，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

均勻性的問題。。。。。影響均勻性的素較多

fly6947:我建議你做一下圖一的重復(fù)性，如果每爐差，但是情況不一樣，那么是你的敏感層是H4，要么膜系結(jié)構(gòu)優(yōu)化一下，（圖2是單峰結(jié)構(gòu)，敏感度沒那么高）要么控制H4的預(yù)熔與充氧量；
如果每爐都這樣，那肯定是均勻性沒做好，有條件的話  高低折射率的mask單獨(dú)修一下；
....... (2017-06-29 08:46)  h~Z:YY)4  

rFW,x_*_vP  
好的   ，謝謝指導(dǎo)。我回頭試試。

johnyu:這很清楚的。
若與圖一使用之MASK為同支，
圖二看起來均勻性O(shè)K，即表示MASK為好的。 t<SCrLbz  
....... (2017-07-03 17:36)  Y>CZ  

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好的   ，謝謝指導(dǎo)。我也覺得單層有薄層敏感度高的。很均勻的差別。