解開(kāi)納米級(jí)3D打印的秘密
勞倫斯利物莫國(guó)家實(shí)驗(yàn)室（LLNL）的研究人員發(fā)現(xiàn)延長(zhǎng)雙光子光刻技術(shù)（TPL）能力的新途徑，一個(gè)高分辨率的三維打印技術(shù)能夠生產(chǎn)納米尺寸的結(jié)構(gòu)，其寬度小于人類(lèi)頭發(fā)寬度的一百分之一。 %l!A%fn(
這一研究結(jié)果，最近發(fā)表在雜志《ACS Applied Materials & Interfaces》上，同時(shí)具有X射線(xiàn)計(jì)算機(jī)斷層掃描（CT）潛力分析的應(yīng)力，或者用于實(shí)現(xiàn)缺陷的無(wú)創(chuàng)性醫(yī)療器械和植入物嵌入的3-D印刷制作。 Q$5 t~*$`
[attachment=81322] 23r(4
雙光子光刻通常需要一個(gè)薄的玻璃片、一個(gè)透鏡，并且需要油浸來(lái)幫助激光聚焦到固化和打印的細(xì)微點(diǎn)上。它不同于其他3D打印方法的分辨率，因?yàn)樗墚a(chǎn)生特征小于激光光斑，規(guī)模沒(méi)有其他印刷工藝可以匹配。該技術(shù)繞過(guò)了其他方法通常的衍射極限，因?yàn)楣袒陀不a(chǎn)生的光致抗蝕劑材料以前是商業(yè)秘密，其中材料同時(shí)吸收兩個(gè)光子而不是一個(gè)。 mce qZv
在論文中，勞倫斯利物莫國(guó)家實(shí)驗(yàn)室的研究人員描述了光刻膠材料的雙光子光刻技術(shù)和三維微結(jié)構(gòu)與功能小于150納米的形成優(yōu)化破解密碼。以前的技術(shù)從基板建造了結(jié)構(gòu)，限制了物體的高度，因?yàn)椴ＡЩ脽羝顽R頭之間的距離通常是200微米或更小。通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)頭部的過(guò)程，將抗蝕材料直接放在鏡頭上，通過(guò)抗蝕劑聚焦激光，研究人員現(xiàn)在可以打印出幾毫米高的物體了。此外，研究人員能夠調(diào)整和提高X射線(xiàn)光抗可以吸收量，超過(guò)10倍的常用技術(shù)的光致抗蝕劑提高衰減。 _R ]s1
[attachment=81324] a,oTU \m
C
上圖所示為勞倫斯利物莫國(guó)家實(shí)驗(yàn)室研究印刷的八桁架結(jié)構(gòu)頂部的一個(gè)類(lèi)似于人類(lèi)頭發(fā)直徑的固體堿的亞微米級(jí)的功能結(jié)構(gòu)。來(lái)源： 勞倫斯利物莫國(guó)家實(shí)驗(yàn)室 F
|