上海光機所在脈寬壓縮光柵損傷研究中取得進展
近日，中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜光學實驗室在脈寬壓縮光柵光致?lián)p傷研究中取得新進展。 `/+>a8
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科研人員明確了金膜與基底材料的結(jié)合力是限制光柵閾值提高的主要原因（圖1），提出在石英光柵結(jié)構(gòu)基底鍍制金膜的方法以提升金光柵的損傷閾值，研究確定了“三明治”光柵的初始損傷位于HfO2層（圖2），并通過分析指出HfO2是限制金屬介質(zhì)光柵閾值提升的主要因素，為進一步提高其損傷閾值指明了方向�？蒲腥藛T提出采用非對稱光柵結(jié)構(gòu)降低局部電場增強效應，采用雙底角光柵設計（圖3），使光柵在保持寬帶高衍射效率的同時，其電場增強極值減少21.3%，此結(jié)構(gòu)能夠有效提高光柵閾值。 ;JT-kw6l5K
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圖1 熔石英基底金膜典型損傷形貌 t{9GVLZ
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圖2 不同能量密度下“三明治”結(jié)構(gòu)光柵損傷點截面圖 V f&zL
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圖3 對稱與非對稱光柵形貌之間的電場增強值對比 F/ {!tx
脈寬壓縮光柵是啁啾脈沖放大(CPA)技術(shù)中的關(guān)鍵元件，其主要特點為寬帶寬、高衍射效率、高損傷閾值和大尺寸。隨著高功率激光裝置的發(fā)展，脈寬壓縮光柵抗激光損傷能力的提升至關(guān)重要，其直接影響著高功率激光裝置的輸出能力。 %[TR^Th6
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該項研究得到了上�？茖W技術(shù)委員會專項以及國家自然科學基金等的支持。相關(guān)研究成果發(fā)表在Optical Materials 等期刊上。 zC!t;*8a
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