| cyqdesign |
2018-07-10 16:14 |
從折剪紙藝術(shù)到納米尺度光學(xué)器件，MIT聯(lián)手中國(guó)科學(xué)家集成3D光學(xué)器件
過(guò)去幾十年來(lái)，折剪紙藝術(shù)開(kāi)始引起科學(xué)家們的興趣，因?yàn)檫@是一種用折紙和剪紙操作構(gòu)建 3 維形體的藝術(shù)。從折剪紙藝術(shù)中獲得的經(jīng)驗(yàn)被用于納米尺度的元器件構(gòu)建。如今，麻省理工學(xué)院和中國(guó)科研人員首次利用折剪紙?jiān)碇圃炝思{米尺度光學(xué)器件，為光通訊、傳感和計(jì)算領(lǐng)域的新應(yīng)用開(kāi)辟了道路。由 MIT 機(jī)械工程教授方絢萊（Nicholas X Fang）和其他 5 名作者組成的團(tuán)隊(duì)，將論文發(fā)表《科學(xué)·前沿》（Science Advances）上�；跇�(biāo)準(zhǔn)微芯片制造技術(shù)，方絢萊教授領(lǐng)導(dǎo)的團(tuán)隊(duì)用聚焦離子束在幾十納米厚的金屬薄片上雕刻出預(yù)定圖形。隨后，金屬薄片扭曲成一個(gè)復(fù)雜的 3 維形體，能對(duì)特定計(jì)劃的光進(jìn)行選擇性濾波。 MWB?V?qPSC
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