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2007-01-10 08:50 |
zemax使用說(shuō)明----第 三 章 約 定 和 定 義
第 三 章 約 定 和 定 義 C'7DG\pr p>N8g#G 介紹 b(_f{R7PY 這一章對(duì)本手冊(cè)的習(xí)慣用法和術(shù)語(yǔ)進(jìn)行說(shuō)明。ZEMAX使用的大部分習(xí)慣用法和術(shù)語(yǔ)與光學(xué)行業(yè)都是一致的,但是還是有一些重要的不同點(diǎn)。 *^oL$_Y FG!2h&k 活動(dòng)結(jié)構(gòu) xyD2<?dGUb 活動(dòng)結(jié)構(gòu)是指當(dāng)前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結(jié)構(gòu)。詳見(jiàn)“多重結(jié)構(gòu)”這一章。 %?hvN [KL-T16 角放大率 Xj9\:M- 像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比,角度的測(cè)量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準(zhǔn)。 9-+N;g!q Kn=0AdM 切跡 p'`?CJq8 切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認(rèn)情況下,入瞳處是照明均勻的。然而,有時(shí)入瞳需要不均勻的照明。為此,ZEMAX支持入瞳切跡,也就是入瞳振幅的變化。 nIr:a|}[ 有三種類型的切跡:均勻分布,高斯型分布和切線分布。對(duì)每一種分布(均勻分布除外),切跡因素取決于入瞳處的振幅變化率。在“系統(tǒng)菜單”這一章中有關(guān)于切跡類型和因子的討論。 KCIya[$* ZEMAX也支持用戶定義切跡類型。這可以用于任意表面。表面的切跡不同于入瞳切跡,因?yàn)楸砻娌恍枰胖迷谌胪帯?duì)于表面切跡的更多信息,請(qǐng)參看“表面類型”這一章的“用戶定義表面”這節(jié)。 NkV81? XL[Dmu& 后焦距 ?$K.*])e ZEMAX對(duì)后焦距的定義是沿著Z軸的方向從最后一個(gè)玻璃面計(jì)算到與無(wú)限遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的距離。如果沒(méi)有玻璃面,后焦距就是從第一面到無(wú)限遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的距離。 W{%X1::q$ 'NMO>[. 基面 ,!40\"A 基面(又稱叫基點(diǎn))指一些特殊的共軛位置,這些位置對(duì)應(yīng)的物像平面具有特定的放大率。基面包括主面,對(duì)應(yīng)的物像面垂軸放大率為+1;負(fù)主面,垂軸放大率為-1;節(jié)平面,對(duì)應(yīng)于角放大率為+1;負(fù)節(jié)平面,角放大率為-1;焦平面,象空間焦平面放大率為0,物空間焦平面放大率為無(wú)窮大。 1xEFMHjy 除焦平面外,所有的基面都對(duì)應(yīng)一對(duì)共軛面。比如,像空間主面與物空間主面相共軛,等等。如果透鏡系統(tǒng)物空間和像空間介質(zhì)的折射率相同,那么節(jié)面與主面重合。 @>,GCuPrm ZEMAX列出了從象平面到不同象方位置的距離,同時(shí)也列出了從第一面到不同物方平面的距離。 ck< `kJ`b 7`j%5%q 主光線 D
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