cyqdesign |
2007-01-19 18:15 |
極紫外光刻機光源技術(shù)項目通過驗收
日前,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所“極紫外光刻機光源技術(shù)研究”項目通過驗收,這標(biāo)志著我國在下一代芯片工藝核心技術(shù)——極紫外光刻(EUVL)光源轉(zhuǎn)換效率上已達(dá)國際先進(jìn)水平。 x|1OGbBK B1\}'g8%f 作為一種新型的微電子光刻技術(shù),“極紫外光刻”以波長為13.5納米的“軟X射線”為曝光光源,最終將成為生產(chǎn)更細(xì)線寬集成電路的主流技術(shù)。
|
|