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離子刻蝕RIE干法刻蝕
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探針臺
2019-07-31 16:22
離子刻蝕RIE干法刻蝕
主要用途
EJAk'L+nuH
D\13fjjHlu
器件表面圖形的刻蝕。
Ez()W,6]g
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性能參數(shù)
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a)可實現(xiàn)各向異性刻蝕，工藝穩(wěn)定，重復性好；
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\kN?7b^
b)射頻功率源：600瓦，頻率13.56MHz；