| cyqdesign |
2019-12-09 20:29 |
中芯國際稱7nm EUV光刻機(jī)問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后，制造越來越困難，其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機(jī)了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機(jī)，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機(jī)的問題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。 <} .$l
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