| 探針臺 |
2020-01-09 11:21 |
半導(dǎo)體術(shù)語解釋 （三）
77) Evaporation 蒸鍍 w"-bO ~5h
將我們的蒸鍍源放在坩堝里加熱，當(dāng)溫度升高到接近蒸鍍源的熔點附近。這時，原本處于固態(tài)的蒸鍍源的蒸發(fā)能力將特別強(qiáng)，利用這些被蒸發(fā)出來的蒸鍍源原子，我們在其上方不遠(yuǎn)處的芯片表面上，進(jìn)行薄膜沉積。我們將這種方法叫蒸鍍。 oCSf$g8q
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78) Exposure曝光 Lq
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其意表略同于照相機(jī)底片的感光 [_qBp:_j?s
在基集成電路的制造過程中，定義出精細(xì)的光阻圖形為其中重要的步驟，以運用最廣的5X Stepper為例，其方式為以對紫外線敏感的光阻膜作為類似照相機(jī)底片，光罩上則有我們所設(shè)計的各種圖形，以特殊波長的光線(G-LINE 436NM)照射光罩后，經(jīng)過縮小鏡片(Reduction Lens)光罩上的圖形則呈5倍縮小后，精確地定義在底片上(芯片上的光阻膜) Np|i Xwl1
經(jīng)過顯影后，即可將照到光(正光阻)的光阻顯掉，而得到我們想要的各種精細(xì)圖形，以作為蝕刻或離子植入用。 M.d{:&@`%
因光阻對于某特定波長的光線特別敏感，故在黃光室中，找將一切照明用光源過濾成黃色，以避免泛白光源中含有對光阻有感光能力的波長成份在，這一點各相關(guān)人員應(yīng)特別注意，否則會發(fā)生光線污染現(xiàn)象，而擾亂精細(xì)的光阻圖形。 ^k^%w/fo
79) Extraction Electrode 萃取電極 u!nt0hS
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80) Fab 晶圓廠 RGLwtN
Fabrication為"裝配"或"制造"之意，與Manufacture意思一樣。半導(dǎo)體制造程序，其步驟繁多，且制程復(fù)雜，需要有非常精密的設(shè)備和細(xì)心的作業(yè)，才能達(dá)到無缺點的品質(zhì)。FAB系Fabrication的縮寫，指的是"工廠"之意。我們常稱FAB為"晶圓區(qū)"，例如：進(jìn)去"FAB"之前須穿上防塵衣。 *D;B%j^;
81) Faraday Cup 法拉第杯 SNff
是離子植入機(jī)中在植入前用來測量離子束電流的裝置。 #B'WT{B$/~
82) Field Oxide 場氧化層 J~<:y Bup}
Field直譯的意思是“場”。如運動場，足球場和武道場等的場都叫做Field。它的涵義就是一個有專門用途的區(qū)域。 ClV MZ
在IC內(nèi)部結(jié)構(gòu)中，有一區(qū)域是隔離電場的地方，通常介于兩個MOS晶體管之間，稱為場區(qū)。場區(qū)之上大部份會長一層厚的氧化層 K fWVz*DC!
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83) Filament 燈絲 V}9wx%v
在離子植入機(jī)的離子源反應(yīng)室里用來產(chǎn)生電子以解離氣體用。通常采用鎢、鉭及鉬等高溫金屬。利用直流電的加熱，使燈絲表面釋放出所謂“熱離化電子”。 5yxZ
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84) Filtration過濾 N ~M:+ \
用過濾器（FILTER,為一半透明膜折迭而成）將液體或氣體中的雜質(zhì)給過濾掉，此稱為Filtration（過濾）故IC制造業(yè)對潔凈度的要求是非常的嚴(yán)，故各種使用的液體或氣體（包括大氣）必須借著過濾以達(dá)到潔凈的要求。 Ko''G 5+
待過濾的液體及氣體能經(jīng)過過濾器且成功地將雜質(zhì)擋下，必須借著一個pump制造壓差來完成，如何選擇一組恰當(dāng)?shù)倪^濾器及PUMP是首要的課題。 X^9_'T9
85) Fixed Oxide Charge 固定氧化層電荷 %DPtK)X1
位于離Si-SiO2接口30Å的氧化層內(nèi)，通常為正電荷。與氧化條件、退火條件及硅表面方 [Bpg b57En
向有關(guān)。 s Tv/;*
86) Foundry客戶委托加工 h{<^?=
客戶委托加工主要是接受客戶委托，生產(chǎn)客戶自有權(quán)利的產(chǎn)品，也就是客戶提供光罩，由聯(lián)華來生產(chǎn)制造，在將成品出售給客戶，只收取代工費用，這種純粹代工，不涉及銷售的方式在國際間較通常的稱呼就叫硅代工（Silicon Foundry）。 a%(1#2^`q!
87) Four Point Probe四點測針 a +weBF#Z
是量測芯片片阻值(Sheet Resistance)Rs的儀器 +-ieaF
其原理如下: tk}qvW.Ii
上圖ABCD四針，A、D間通以電流I，B、C兩針量取電壓差(ΔV)，則 z0g]nYN%
Rs = K．ΔV/ I ． ]X?+]9Fr
K是比例常數(shù)，和機(jī)臺及針尖距離有關(guān) 0yAvA x
88) FTIR傅氏轉(zhuǎn)換紅外線光譜分析儀 KD Qux
FTIR乃利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。 X[Y!=e4z
己發(fā)展成熟，可 Routine應(yīng)用者，計有: A| Y \Y
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