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2020-03-10 10:30 |
金相分析以及常見解析
金相分析以及常見解析金相分析是研究材料內(nèi)部組織結(jié)構(gòu)的重要方法,一般用來進行失效分析(FA)、質(zhì)量控制(QC)、研發(fā)(RD)等。而金相試樣制備的目的是獲得材料內(nèi)部真實的組織結(jié)構(gòu),需要通過不同的金相試樣制備方法去完成。 7C R6ew~ xsiJI1/68 一般來說,金相試樣制備的方法有:機械法(傳統(tǒng)意義上的機械制備--磨拋)、電解法(電解拋光和浸蝕)、化學(xué)法(化學(xué)浸蝕)、化學(xué)機械法(化學(xué)作用和機械作用同時去除材料)。 R:j
mn 金相試樣制備的結(jié)果需要滿足以下要求:1、試樣必須具有代表性;2、所有結(jié)構(gòu)元素必須保留;3、試樣表面必須無劃痕也無變形;4、試樣表面不應(yīng)有外來物質(zhì);5、試樣表面必須平整且呈鏡面。 %>5>wP pC #LQ 對于金相試樣來說,傳統(tǒng)的機械制備是主要手段。金相試樣機械制備步驟一般分為:切割(cutting)、鑲嵌(mounting)、研磨(grinding)、拋光(polishing)、蝕刻(etching)、顯微鏡觀察(observation)。至于每一個步驟的制樣理論不贅述,以下主要列出常見的制樣難點問題及解決方案,以供參考。 }kP<zvAaw 一、切割: SlwQ_F"4L 金相取樣一般會選擇濕式砂輪片切割法(金相切割機),取樣位置根據(jù)金相檢測目的來決定(是常規(guī)金相檢測取樣還是失效分析取樣,是縱向還是橫向取樣),金相取樣的一般原則是在取樣過程中不能導(dǎo)致試樣過熱,否則會產(chǎn)生嚴重的熱變形,對后續(xù)制樣帶來不便。切割過程中常見的一些問題有:1、切割過程中砂輪片崩裂;2、切割下來的試樣有毛邊;3、切割的工件表面有燒傷;4、切割面不平整;5、切割輪損耗較大;6、切割涂層類樣品時涂層易脫層 +(y8q 二、鑲嵌: hRMya#%- 為了便于機械磨拋,將金相試樣鑲嵌成標(biāo)準尺寸大小。往往會根據(jù)不同的應(yīng)用要求(比如鑲嵌料是否需要具有導(dǎo)電性、試樣邊緣是否需要邊緣保護、試樣是否需要批量鑲嵌、鑲嵌樹脂是否需要很好地填充到試樣內(nèi)部孔隙中等等)來選擇不同的鑲嵌方案:是選擇冷鑲還是熱鑲?是選擇冷鑲或熱鑲樹脂中的哪一種?鑲嵌過程中常見的一些問題有:1、冷鑲嵌塊有大量氣泡;2、試樣與樹脂交界處有縫隙;3、鑲嵌塊表面有放射狀裂紋;4、鑲嵌樹脂黏模。 aNA]hl 三、磨拋: *+nw%gZG 為了獲得真實的材料內(nèi)部組織,需要通過逐道次機械研磨和拋光來實現(xiàn)。磨拋難點在于,會存在許多制備贗像,而這些贗像會干擾我們對真實組織的判斷。磨拋過程中常見的一些問題有:1、劃痕;2、涂覆;3、變形;4、邊緣磨圓;5、浮雕;6、脫落;7、磨料嵌入;8、曳尾;9、開裂;10、虛假孔隙率。 @DF7j|]tV 四、蝕刻: %ZX9YuXQ 蝕刻提高了試樣拋光表面的對比度,展示出材料的微觀或宏觀結(jié)構(gòu)(金相圖),比如晶界或者相的輪廓形貌,這將有助于我們進行金相分析。蝕刻要點有:1、蝕刻之前試樣表面需要達到一個盡量無變形或無劃痕的光滑表面;2、如果是電解制樣,可以先進行電解拋光緊接著進行電解蝕刻。3、選擇適合當(dāng)前材料的化學(xué)蝕刻液或者電解蝕刻液。 1b86@f 芯片開封實驗室介紹,能夠依據(jù)國際、國內(nèi)和行業(yè)標(biāo)準實施檢測工作,開展從底層芯片到實際產(chǎn)品,從物理到邏輯全面的檢測工作,提供芯片預(yù)處理、側(cè)信道攻擊、光攻擊、侵入式攻擊、環(huán)境、電壓毛刺攻擊、電磁注入、放射線注入、物理安全、邏輯安全、功能、兼容性和多點激光注入等安全檢測服務(wù),同時可開展模擬重現(xiàn)智能產(chǎn)品失效的現(xiàn)象,找出失效原因的失效分析檢測服務(wù),主要包括點針工作站(Probe Station)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、微漏電偵測系統(tǒng)(EMMI)、X-Ray檢測,缺陷切割觀察系統(tǒng)(FIB系統(tǒng))等檢測試驗。實現(xiàn)對智能產(chǎn)品質(zhì)量的評估及分析,為智能裝備產(chǎn)品的芯片、嵌入式軟件以及應(yīng)用提供質(zhì)量保證。 (=%0$(S>
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