| cyqdesign |
2020-12-01 23:42 |
中科院研發(fā)者回應5納米光刻技術突破ASML壟斷
今年7月，在中國科學院官網上發(fā)布了一則研究進展，中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。 {(#>% f+|C
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